服务介绍
二次离子质谱(SIMS)可检测极低浓度的掺杂剂和杂质。该技术提供了从几埃 () 到几十微米 (m) 的广泛深度范围内的元素深度剖面。 样品表面用一束初级离子(通常是 O2+或者Cs+) 而在溅射过程中形成的二次离子使用质谱仪(四极杆、扇形磁场或飞行时间)进行提取和分析。 次级离子的浓度范围可以从基质水平到亚 ppm 痕量水平。详情请咨询客服:4009-621-929
服务内容
二次离子质谱(SIMS)可检测极低浓度的掺杂剂和杂质。该技术提供了从几埃 (Å) 到几十微米 (µm) 的广泛深度范围内的元素深度剖面。 样品表面用一束初级离子(通常是 O2+ 或者Cs+) 而在溅射过程中形成的二次离子使用质谱仪(四极杆、扇形磁场或飞行时间)进行提取和分析。 次级离子的浓度范围可以从基质水平到亚 ppm 痕量水平。
- 掺杂和杂质深度剖析
- 薄膜(金属,电介质,SiGe,III-V和II-VI材料)的成分和杂质测量
- 浅层植入物和超薄薄膜的超高深度分辨率分析
- 批量分析,包括 Si 中的 B、C、O 和 N
- 高精度匹配工艺工具,例如离子注入机或外延反应器
检测范围 |
检测项目 |
检测标准 |
---|---|---|
掺杂剂 |
薄膜(金属,电介质,SiGe,III-V和II-VI材料)的成分和杂质测量 |
GB/T 9468 GB/T 22907 GB/T 24824 |
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